"Vorrichtung zur punktförmigen Fokussierung von Strahlung"
DE 10 2006 027 126 B3

"Anordnung zur Kontaktierung von Einzelkomponenten eines Halbleiterdioden-Moduls"
DE 20 2006 005 664 U1

"Optisches Element und Verfahren zu dessen Herstellung"
DE 10 2004 052 857 B4

"Optoelektronisches Element und Verfahren zur kohärenten Kopplung von aktiven Bereichen optoelektronischer Elemente"
DE 10 2004 038 283 B4

"Mikrowellenantenne für in Flip-Chip-Technologie hergestellte Halbleiterbaugruppen"
DE 10 2004 014 018 B3      EP 1 726 063 B1

"Verfahren zur Herstellung eines Doppelheterostruktur-Bipolartransistors für hohe Betriebsspannungen"
DE 103 57 409 B4

"Sättigbarer Halbleiterabsorber und optisch gepumpter Halbleiterlaser zur Erzeugung kurzer Pulse"
DE 203 20 866 U1

"Verfahren zur Herstellung von InP-basierten Heterostruktur-Biopolartransistoren auf der Grundlage von III/V-Halbleitern"
DE 103 30 359 B4

"Verfahren zur Herstellung eines Braggschen Gitters in einer Halbleiterschichtenfolge mittels Ätzen und Halbleiterbauelement"
DE 102 00 360 B4      EP 1 464 098 B1

"Verfahren zur Passivierung der Spiegelflächen von optischen Halbleiterbauelementen"
DE 102 21 952 B4       EP 1 514 335 B1       US 7,338,821 B2

"Verfahren zur Herstellung von oberflächenemittierenden Halbleiter-Bauelementen und oberflächenemittierendes Halbleiter-Bauelement"
DE 101 44 826 B4

"Verfahren zum Wachsen von Galliumnitrid-Halbleitermaterial"
DE 101 36 605 B4

"Verfahren zum anisotropen Strukturieren von Materialien"
DE 101 30 916 B4

"Laserresonatoren mit modenselektierenden Phasenstrukturen"
EP 1 295 371 B1

"III-V-Halbleiterlaser-Bauelement"
DE 199 27 008 B4

"Verfahren und interferenzoptische Messeinrichtung zur optoelektronischen Vermessung der Mikrostrukturen eines mikroelektronischen Bauelementes"
DE 198 40 725 B4

"Mikroplasmaarray"
EP 1 836 718 B1

"Verfahren zur Erzeugung von vertikalen elektrischen Kontaktverbindungen in Halbleiterwafern"
EP 1 891 670 B1        US 7,612,728 B2